BS-60610BDS Bombardment Deposition Source

此设备为利用电子束轰击间接加热法的蒸镀源。与旧型号(BS-60310)相比增加了电子束扫描功能，并通过扫描功能实现了高速率，厚膜蒸镀，适配大型装置等特点。

*   坩埚容量加大

*   高速率。与旧型号相比Al蒸镀提升10倍，Ge蒸镀提升40倍。

*   适配大型设备。T-S距离1.1m的情况下仍然可以得到足够的速率。

*   可厚膜蒸镀。可应对红外线的相关用途。

*   速率稳定化。旧型号较难控制的升华性材料的蒸镀速率也能实现稳定蒸镀。

*   低损伤，低缺陷，低吸收等，旧型号的特点也一并继承。

    主要特点                                                                                                                                        

1.   电子束轰击方式的加热原理（示意图）

2.   电子束照射范围扩大 · 坩埚大容量化  
     通过增加电子束扫描功能使得电子束的照射范围相比旧型号得到了显著的提高，并使得坩埚大容量化成为可能。

3.   厚膜兼容  

    坩埚大容量化使得蒸镀材料的填充量也得到增加，继而使得每个坩埚可实现的蒸镀最大膜厚也得到增加。红外线用途的使用也成为可能。与旧型号相比蒸镀比较困难的氟化镧等升华性材料的利用率也得到了提高。

4.    高速率化·适配大型设备  
    由于电子束照射范围扩大时，电子束的电流密度会随之降低，所以可以实现增大输出而不损坏坩埚；而且电子束照射范围扩大也增大了蒸发面积。通过增大最大输出和扩大蒸发面积从而实现了蒸镀的高速率化。T-S距离1.1m的情况下，Al可以实现4 nm/s，Ge可以实现1 nm/s的蒸镀速率，可以适配大型设备。

Ge蒸镀实例
    用于红外线透光膜的锗也可以实现高速率蒸镀（旧型号的40倍），提高生产效率；并且坩埚也为了防止飞溅的产生而进行了特殊的设计，使得蒸镀稳定和光学吸收减少镀膜成为可能。

    在蒸镀Ge时，与EB蒸镀相比，可以实现飞溅更少，表面粗糙度数值更小的镀膜

MgF2蒸镀实例  
    以下为BS-60610和EB在相同条件下进行蒸镀时，穿透率和反射率的和的比较数据。
    BS-60610BDS的特点是可以完成在300 nm附近光学吸收少的薄膜镀膜。

    MgF2单层膜膜厚分布的数据

Al蒸镀实例

    BS-60610BDS和EB的，Al膜的反射率特性的3种比较数据。BS-60610BDS的光谱特性再现性高（变化小），并且可以实现高反射率。

    以下为Al膜表面粗糙度的计算值。与EB蒸镀比较表面的平滑度得到改善。

  规格/配件

   标准配置

   可选配件

   可用电子枪电源

※JST-F系列电源无法使用

※BS-60610BDS的加速电压为-6kV专用

※为了保证坩埚温度能均衡上升，推荐使用ACR模式