最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。
◇ 节省空间
标准的设备占地面积为4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H),比以往机型占用空间更小,外形更加紧凑美观。
◇ 低功耗
正常工作时的功耗约为3kVA,仅需以往机型耗电量的1/3。
◇ 高产能
具备高分辨率和高速两种刻写模式,非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时,并将扫描频率提升至业界最高最水准的125MHz (以往机型的1.25~2.5倍),使其具备更高的生产能力。
◇ 机型
JBX-8100FS系列设有G1(基本版)和G2(全配版)两种机型。G1机型装机后也可进行升级,使其支持更高的应用需求。
◇ 新功能
安装光学显微镜(选配)后,在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔(标配),实现了视觉范围内的系统运行状况监控。
◇ 激光定位分辨率
采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪,对样品台位置进行高精度的量测控制。
◇ 系统控制
配备了Linux®系统,图形用户界面使操作更加简单,便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®
备注:
Linux® 为Linus Torval在日本及其它国家的注册商标或商标。
Windows为美国微软公司在美国及其它国家的注册商标或商标。
主要技术指标
机型 | G1 (基本版) | G2 (全配版) |
描画方式 | 圆形束斑, 矢量扫描, 步进重复移动方式 | ← |
加速电压 | 100kV | 100kV/50kV |
电流 | 5×10-12 ~ 2×10-7A | ← |
写场尺寸 | 最大1,000μm×1,000μm | 最大2,000μm×2,000μm |
扫描频率 | 最大125MHz | ← |
样品台移动范围 | 190mm×170mm | ← |
套刻精度 | ≦±9nm | ← |
场拼接精度 | ≦±9nm | ← |
正常工作时的功耗 | 3kVA | ← |
样品尺寸 | 最大200mmΦ的晶圆片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小样品。 | ← |
材料传送 | (1张)自动装载系统 | (12张)自动装载系统 |
主要选配件 | 光学显微镜 |